吴汉明院士展现，不理当自力研制光刻配置装备部署，这想法真是他错了吗？-重阳名轩网

巨匠都知道，我国的现不想法芯片事业不断都是比力落伍的，特意是理当在华为履历了“卡脖”使命之后，芯片的自力装备真错睁开更是成为了巨匠颇为关注的使命。可是研制想要芯片事业更进一步，不断都有一个大山需要翻越，光刻那便是配置光刻机。

良多迷信家都在思考，部署我国是吴汉否理当自力研制光刻配置装备部署，但吴汉明院士却持招供态度！明院他感应，士展我国当初最主要的现不想法使命，不是理当研发光刻机，而是需要将留意力放在7nm破费线上，惟独先实现55nm的周全国产化，威力够处置中国芯的下场，打造残缺的半导体财富链。那末他的想法有错吗？

对于吴汉明院士的意见，良多网夷易近展现了不拥护见，并展现中国为甚么不能破费 EUV光刻机，难免偏激贬低自己了。不外平心而论，自主研发 EUV光刻机的难度，着实太大了，可能五年、十年、二十年都做不到，就算经由多年的自动，取患了乐成，但在那个时候，光刻机也成为了落伍的产物，将不任何意思。

放眼天下，当初有能耐制作光刻的也就荷兰的 ASML ，日本的 Nikon与 Canon，以及上海微电子，而荷兰的 ASML更是在 EUV光刻机规模占有着相对于的话语权，致使可能说是中高端规模的霸主。

ASML作为天下上最顶尖的光刻配置装备部署制作商，在全部光刻行业都算患上上是“天花板”级此外人物。回溯到2018年，中芯国内以1亿5万万美元的价钱，向 ASML置办最新 EUV光刻机，但由于老美的阻止，不断到如今还没能交货。便是由于这样，我国到如今都不取患上一台光刻机。

之以是会泛起这样的情景，有两个紧张的原因。第一点便是，ASML不断在忌惮着我国的学习能耐，以及研发能耐，他们心田很清晰，一旦我国具备高真个光刻机，就能实现芯片的量产，而且钻研出更高真个芯片也只是光阴下场。一旦泛起这样的情景，台积电的利润以及芯片定单就会削减。而ASML以及台积电有着很详尽的分割，一旦台积电的利润削减，他们的利润也会有所影响。

其次，家喻户晓，制作一台光刻机，不光需要颇为多的零部件，致使逾越了十万个。而当初全天下五千多家的提供商中，有良多都是美国的公司，因此想要取良大批整机，就需要美国的拥护，就算ASML想要给以中国光刻机，也需要美国的拥护。

为此，中国工程院吴汉明院士曾经提出过这样的意见，“不要将目力锁定在 EUV光刻机上，与其在一棵树上吊去世，不如着重睁开我国愈加成熟的55nm 、28nm的芯片制作，惟独在这个方面取患了造诣，能耐逐渐突破芯片行业的约束。”

想要自主研收回光刻机，以咱们当初的科技水平，根基做不到这一点。要知道，一台EUV光刻机，可是有逾越十万个详尽整机的，而且每一个整机，都是由多个国家破费进去的，而后再由 ASML妨碍装置。这就导致了，对于技术的要求很高，而且财富链也很广。仅凭一个国家的实力，很难实现 EUV光刻机的研制。

尽管我国的科研职员，也知道想要钻研出一台光刻机，黑白常难题的使命，根基上是无奈实现的。可是我国的良多尖端企业，好比清华大学，上海微电子等等，都在自动地妨碍钻研，可是仍是处于起步阶段。尽管我国依然在果敢地试验，可是想要乐成研发，尚有很长的路要走。

因此，咱们不理当将所有的神思都放在机械的研发上，还要不断自动，去追寻更好地突破限度的措施，因此吴院士才会有招供的想法。

这是由于，以咱们国家的技术水平，残缺可能破费出适宜咱们国家要求的芯片，不需要太多地依靠外洋的营救，惟独打下了坚贞的根基，咱们能耐故患上更强。事实上，在光刻技术的睁开上，我国起步并不晚，在当时，咱们已经站在了天下的前线。在荷兰 ASML尚未建树以前，国内一所驰名大学的详尽仪器业余，就已经在1971年乐成开拓了一台“激光干涉定位自动扩散一再摄影机。”

当时日本还勾留在若何后退胶卷技术的时期，以是我国是先的技术可能说黑白常先进了，当时我国的激光技术已经一劳永逸。可是这样的造诣却不坚持良久，当时的缔造并无受到国家的看重，而是踏入了“造不如买”的过错之中，导致我国错失了睁开的机缘。

尽管我国错过了机缘，可是还好我国醒以为比力早，也不断在不断自动着。当初，我国尽管还无奈研制出自己的光刻机，可是已经把握了两千多项专利技术。而且在LED光刻机市场以及中高端封装光刻机上，取患了很大的造诣。

可是我国在破费芯片所用的光刻机上，仍是不断处于优势，以及ASML比照，差距仍是很大的。可是我国的科研职员并无坚持，而且北大教授还展现，当初ASML曾经说过，中国假如不断无奈进口光刻机，那末就算三年五年之后，我国也无奈把握这门技术。可是北大教授却不这么以为，他感应我国很快就会把握这门技术，而且还会破费出老本更低的光刻机，那时荷兰就只能退出。